Epitaxy Services

전력반도체 분야에서 고출력을 낼 수 있는 GaN on GaN Epi 성장, 분석 및 평가 서비스

기존의 GaN-on-Si 반도체는 Hetero-Epitaxy 채널 구조를 이용한 수평형 디바이스로, 높은 전압을 견디지 못한다는 한계점을 가지고 있었습니다. GaN-on-GaN은 그런 수평형 디바이스의 단점을 극복한 고내압 특성을 가지는 것은 물론, 고출력 고주파 및 고온, 극한 환경에서도 버틸 수 있어, 소재 및 소자 특성의 신뢰성이 필요한 레이더 및 이동통신 분야에서도 폭 넓게 응용됩니다. BTOZ는 이러한 수직형 GaN-on-GaN 전력반도체의 기반이 되는 고품질 Bulk GaN웨이퍼를 제작하고 Epitaxy 서비스를 제공합니다.

GaN-on-GaN Epitaxy 테이블
GaN 수평형 소자 GaN 수직형 소자
구조
장점

High mobility 2DEG

Si, SiC, Sapphire 등 다른 종류의 기판 사용 가능

대면적 웨이퍼(6” 이상) 사용으로 생산성 높음

높은 breakdown voltage (>1 KV)

높은 전류 밀도 가능

주요시장

저전압 전력 소자

5G 통신용 소자

고출력 레이다용 소자

하이브리드 자동차/전기 자동차

고속 충전 시설

초대용량 전력 반도체

BTOZ

SiC 웨이퍼에 epi 서비스

GaN 웨이퍼 생산

GaN 웨이퍼에 epi 서비스

전기차용 GaN 전력 소자 설계/생산

불렛글장식이미지 GaN Epi 소재 비교

유사한 물성 테이블
GaN-on-Sapphire GaN-on-Silicon GaN-on-SiC
적용분야 광소자(LED, Sensor) 전력 반도체(FET, SBD) RF 소자 (FET, HBT)
특징 고휘도, 대구경, 저가격 E-mode, RON 적음, 대구경 고주파, 고출력, 저잡음, 신뢰성
고품질 GaN
Semi-insulating GaN X
미세 Gate X 수㎛ ≤ 0.5㎛
Back side via hole X X

GaN-on-SiC Epi 소재 특성

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